Şimdi Ara

ASML, High-NA litografi makineleriyle yeni yoğunluk rekoru kırdı

Daha Fazla
Bu Konudaki Kullanıcılar: Daha Az
1 Misafir - 1 Masaüstü
5 sn
5
Cevap
0
Favori
279
Tıklama
Daha Fazla
İstatistik
  • Konu İstatistikleri Yükleniyor
4 oy
Öne Çıkar
Sayfa: 1
Giriş
Mesaj
  • ASML, High-NA litografi makineleriyle yeni yoğunluk rekoru kırdı
    ASML, ilk High-NA litografi makinesiyle iki ay önce kırdığı rekoru geride bırakarak yeni bir çip üretim yoğunluğu rekoru kırdığını duyurdu. Ayrıca, ASML'nin eski Başkanı ve CTO'su Martin van den Brink, daha da öteye giderek, şirketin gelecekte daha gelişmiş Hyper-NA çip üretim makinesini geliştirebileceğini duyurdu ve şirketin planlarını paylaştı. 



    Şuanda ASML'nin litografi makineleriyle saniyede 200 plaka üretim yapılabiliyorken, gelecekte 400 ile 500 plaka üretim rakamına çıkılarak maliyetlerin düşürülmesi hedefleniyor. Van den Brink ayrıca, şirketin gelecekteki EUV araçları ailesi için modüler ve birleştirici bir tasarımın tercih edileceğini vurguladı.



    8nm yoğunluğa sahip desenler basılabildi



    Van der Brink, şirketin yeni High-NA araçlarında yapılan ayarlamalar neticesinde, cihazın 8nm yoğunluğunda desenler basarak yoğunluk rekoru kırdıklarını açıkladı. İki ay önce şirket, 10nm yoğunluğa ulaşmayı başarmıştı. Kıyaslama açısından, ASML'nin standart Low-NA EUV makineleri 13,5nm'lik kritik boyutları (CD, basılabilen en küçük özellik) basabiliyor.



    Ayrıca Bkz.Gerek yok denmişti: TSMC, High-NA EUV için sessizce ASML’nin kapısını çaldı



    Bu kilometre taşı, ASML'nin 10 yılı aşkın süren Ar-Ge ve milyarlarca euroluk yatırımının sonucunda ortaya çıktı. Ancak sistemi optimize etmek ve teknolojiyi seri üretime hazırlamak için yapılması gereken daha çok iş var. Şirket cihaz üzerinde Hollanda'da çalışmalara devam ederken, High-NA sistemini monte eden tek çip üreticisi olan Intel, Oregon'daki D1X fabrikasında ASML'nin ayak izlerini yakından takip ediyor. Intel, EXE:5200 High-NA makinesini ilk etapta Ar-Ge amacıyla kullanacak, ardından 14A düğümü için üretime geçirecek.



    ASML, High-NA litografi makineleriyle yeni yoğunluk rekoru kırdı
    Günümüzün standart EUV makinesi, 13,5 nm dalga boyuna ve 0,33 sayısal açıklığa (NA, ışığı toplama ve odaklama yeteneğinin bir ölçüsü) sahip ışık kullanıyor. Buna karşılık, yeni High-NA makineleri aynı ışık dalga boyunu kullanıyor ancak daha küçük özelliklerin basılmasını sağlamak için 0,55 NA'ya sahip. Van der Brink'in önerdiği Hyper-NA sistemi, aynı dalga boyunu kullanacak ancak daha küçük özelliklerin basılabilmesi için NA'yı 0,75'e genişletecek. 



     




    Kaynak:https://www.tomshardware.com/pc-components/cpus/asml-sets-new-chipmaking-density-record-proposes-hyper-na-tools-and-radical-euv-speed-boosts







  • 1 NA oldu mu tamamdır bu iş, düz hesap 1.

  • O da bir şey mi,,hala 7 de 10 da dolaşıyorlar.gelsinler bize,biz onlara 100 nasıl olur öğretelim,,

  • Litografi teknolojisi için paylaşılan resimlerde üzerinde binlerce kablonun ve ekipmanın olduğu devasa makineler gösteriliyor, yapılan argenin milyarlarca Euro tuttuğu bildiriliyor, paylaşılan fotolar hep aynı türden ve bazılarının abartı olduğunu düşünüyorum, tabiki makineyi yapanlar zor bir iş yapıyor ve teknoloji de öncü olabilir ama sanki olduğundan daha zor gösterip başkasının bu işlere girmesini istemiyorlar.

  • Yapay Zeka’dan İlgili Konular
    Daha Fazla Göster
    
Sayfa: 1
- x
Bildirim
mesajınız kopyalandı (ctrl+v) yapıştırmak istediğiniz yere yapıştırabilirsiniz.